2017-04-04 00:00:00
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2017年3月29日至4月2日,第45届日内瓦国际发明展在瑞士日内瓦举行。日内瓦国际发明展(Geneva International Exhibition of Inventions)创办于1973年,由世界知识产权组织、瑞士联邦政府等共同举办,是世界上最大规模及知名度最高的发明展览会之一。在此次发明博览会上,共有来自40个国家和地区的近1000项发明成果参展,其中来自中国内地的发明共83项。
此次发明展,我公司参展的“超高分辨率光矢量分析仪”用于光器件幅度、相位和偏振响应的测量,在大容量光通信、高精度传感、超高速片上信号处理、集成光子学等领域有重要的应用价值。其分辨率高达1飞米,比当前全球市场上唯一商用光矢量分析仪表产品的分辨率提高了1600倍,相位测量精确度提高了10倍。

展览期间,我公司展区接洽外国友人达千余人,到我公司展台参观的观众络绎不绝,其中专业观众及评委与我公司技术团队进行了深度的技术交流。

最终,我公司的核心技术与产品得到大赛组委会的高度认可,荣获日内瓦国际发明展最高奖项——“特别嘉许金奖”。